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選擇性非催化還原技術(SNCR)

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工藝說明SNCR技術(選擇性非催化還原工藝)是把還原劑NH3噴入爐騰或水泥分解爐中溫度為850-1100C的區(qū)域,該還原劑與煙氣中的NOx進行有選擇性反應生成N2和H20。將氨水(質量濃度25%-30%)通過霧化噴射系統(tǒng)直接噴入爐膛或水泥分

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產(chǎn)品描述

工藝說明

SNCR技術(選擇性非催化還原工藝)是把還原劑NH3噴入爐騰或水泥分解爐中溫度為850-1100C的區(qū)域,該還原劑與煙氣中的NOx進行有選擇性反應生成N2和H20。

將氨水(質量濃度25%-30%)通過霧化噴射系統(tǒng)直接噴入爐膛或水泥分解爐合適溫度區(qū)域一旋風分離器(850-950C),霧化后和氨與NOX(NO、NO2等混合物)進行選擇性非催化還原反應,將NOx轉化成無污染的N2。當反應區(qū)溫度過低時,反應效率會降低;當反應區(qū)溫度過高 時,氨會直接被氧化成N2和NO。噴氨后爐內發(fā)生的化學反應有:

4NH3 + 4NO +O2-4N2 + 6H20

4NH3+6NO-5N2+6H20

8NH3+6NO2-7N2+12H20

4NH3+2NO2+02-3N2+6H20

為了提高脫NOx的效率并實現(xiàn)NH3的逃逸 *小化滿足以下條件:在氨水噴入的位置沒有火焰;在反應區(qū)域維持合適的溫度范圍(850-950C);在反應區(qū)域有足夠的停留時間(至少1秒以上,~850C)。

工藝特點:

脫硝效率不高,一般不超過75%(理論值),實際值在70%(如提高脫硝效率則氨的利用率會較低還原劑消耗量較大,氨逃逸率高(一般在5-10PPM),易生成硫酸氫,造成空預器等設備堵塞和腐蝕。要求主機負荷和燃燒煤種比較穩(wěn)定,一旦變化引起溫度窗口變化(對溫度的變化要求嚴格),脫硝效率降低較快。

工藝流程圖

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